第一四七五章 90nm光刻机（1 / 2）

“邓院长，我代表京城半导体公司，奖励研发部500万元。”

啪啪……

8月15日，接到总经理魏建国的电话，京城光刻机研究院研发成功了90nm制程工艺光刻机，孙健非常高兴，第二天上午就乘飞机从江城来到京城，在京城光刻机研究院会议室接见了包括院长邓国辉院士、副院长欧阳明院士、副院长陈伟长院士、光刻机自动化研究所所长夏季常院士在内的200多名90nm制程工艺光刻机研发部的研发人员。

京城光刻机研究院在不到一年的时间内研发成功90nm光刻机，厚积薄发，孙健不会感到惊讶，经过近9年的快速发展，加上舍得投资，京城光刻机研究院下属10家研究所（部）人才济济，国内近八成的顶尖光刻机人才都在这里。

京城半导体公司拥有4名光刻机专业顶尖的院士，教授、研究员、教授级工程师近百人，这在国内科研院所和公司中都是绝无仅有的事情。

如今没有专业博士文凭，很难进入京城光刻机研究院。

1998年9月，GcA和Nikon先后研发成功90nm制程工艺的光刻机；2000年8月，Intel、Ibm、It、Amd、hp各自投资25亿美元（包括基建费用）建设的一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线先后量产。

2000年，ASmL、canon、SVG先后研制成功90nm制程工艺的光刻机。

1999年，pGcA半导体公司申请从GcA购买一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线，但遭到美国商务部否决，重新申请购买一条12英寸晶圆、180制程工艺的半导体生产线，3个月后才批准，2000年12月7日，这条生产线才量产。

得陇望蜀！

2000年12月底，孙健怂恿中村三郎代表曙光东芝晶圆公司，从东芝公司引进一条12英寸晶圆、90nm制程工艺的半导体生产线，但遭到日本半导体协会拒绝；曙光东芝晶圆公司花费15亿美元（包括从bSEc采购40台250nm制程工艺的光刻机）从日本引进了一条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线，如今还处于设备安装阶段，9月下旬试生产。

国内有了二条12英寸晶圆、180nm制程工艺的半导体生产线，台积电、三星都只有一条。

京城半导体公司（bSEc）研制成功的90nm制程工艺的光刻机虽然比GcA和Nikon晚了近三年的时间，比ASmL、canon、SVG晚了一年多的时间，但已经是一项了不起的成就。

美西方国家禁止出口最先进的技术和生产线给国内，孙健多次遭遇“有米无锅”的局面。

1993年3月，孙健奉命接手工业部四十五所、中K院微电子研究中心和中K院沪海光学精密机械研究所及其配套工厂，组建bSEc，bSEc生产的光刻机，制程工艺同GcA和Nikon相比，相差四代，落后20年都不止！

bSEc同中K院、华清、燕大、哈工大、国科大、华中大学、沪海硅片制造厂、冰城光源材料厂、金城激光器制造厂、金城金属气体厂等97家科研院所和公司长期保持合作关系，联合开发单晶硅、光源材料、激光器材料和光刻气体等技术攻关项目。

半导体产业发展日新月异，要不是全球光刻机产业被193nm波长的世界性光学难题卡住了，GcA和Nikon早就研制65nm制程工艺，甚至40nm制程工艺的光刻机了。

一步先步步先，光刻机的制程工艺不是花钱就能迅速解决的技术难题。